制药厂废气处理问题一直是一个国家所关注的题目内容之一， 主要是由于制药企业产生的废水和废气含有细菌、酸碱废气和恶臭会对我们附近的环境因素造成影响很大的污染，对人体的伤害自己也是一种巨大的。

目前我国针对制药厂的废气达标排放管理方法有吸附脱附处理、催化燃烧、喷淋塔洗涤酸碱废气、双碱法、低温等离子+复合光催化、冷凝、生物膜法、脉冲电晕法等。那么废气处理系统设备设计采用一些什么信息处理方式方法研究可以发展达到《恶臭污 染物排放尺度》(GB14554-93)中的二级尺度值呢?这里先容两种情况比较好用的制药厂废气处理数据技术。

制药厂生物过滤废气除臭技术采用“微生物”降解技术，利用生长在过滤介质上的除臭微生物对 H2S、 SO2、 NH3等挥发性有机气味进行降解，净化率为98-99% 。该系统使用寿命长达10年以上，可在 -20 °C-40 °C 的室外正常工作。可全年运行，每天24小时连续运行，无二次污染。而且系统覆盖面积小，节约了土地资源。

低温等离子体+复合光催化利用制药等行业产生的大流量、低浓度有机废气的特点。核心是首先利用低温等离子体产生高能电子，直接分解废气因子中的有害气体，使其快速形成小分子碎片，降解天然CO2、H2O等。再利用光触媒的作用，降解各种尚未降解的有害气体，从而达到对车间产生的废气满意的综合降解效果。

制药厂采用低温等离子体和复合光催化净化废气的整套设备的分布过程如下: 首先，废气源→废气进入活性炭装置，与恶臭气体中的 H2S 发生反应。SW 型高效除臭剂脱硫→进入 PM 水气分离器除湿→进入等离子体 + 光催化反应器分解，极限天然二氧化碳和水→风机处理废气经排气管排放标准。

废气达标排放等离子废气处理设备

低温等离子体技术是近年经济发展结合起来的废气以及处理中国新技术，低温等离子体处理企业废气的原理为：当外加电压可以达到理想气体的放电工作电压时，气体被击穿，产生主要包括我国电子、各种离 子、原子和自由基在内的混合体。低温等离子体降解有机污染物是利用我们这些研究高能电子、自由基等活性物质粒子和废气中的污染物影响作用，使污染物分子在极短的时间内发生分 解，以达到提高降解污染物的目的。

由此可见，制药厂的低温等离子体复合光催化废气处理设备，电极与废气之间没有直接接触，没有设备腐蚀问题，设备起停很快，适用于高流量、高风量的废气处理。介质阻挡放电产生的低温等离子体具有较高的电子能量，可以与几乎所有的气体分子相互作用，技术相对成熟。就目前而言，废气处理将有一个趋势。